詳細摘要： AMAT二手金屬化學氣相沉積設備CenturaAPISPRINT，針對于300nm晶圓，主機類型為CenturaAP，工藝采用WCVD，擁有4個腔室，3個裝載端...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-14 在線留言
青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細摘要： AMAT二手金屬化學氣相沉積設備CenturaAPISPRINT，針對于300nm晶圓，主機類型為CenturaAP，工藝采用WCVD，擁有4個腔室，3個裝載端...
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詳細摘要： AMAT等離子化學氣相沉積PECVD設備producerse，生產(chǎn)于2003年，采用PETEOS工藝，針對12英寸（300mm）晶圓處理
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詳細摘要： ASM二手化學氣相沉積PECVD設備Dragon2300生產(chǎn)于2003年，針對12寸（300nm）晶圓處理
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詳細摘要： ASM二手化學氣相沉積CVD設備Eagla10采用DARC流程工藝，針對于8英寸晶圓的處理，現(xiàn)貨供應
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-14 在線留言
詳細摘要： novellus化學氣相沉積mocvd設備vectorexpress，購買于2004年，針對12英寸晶圓設計使用
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-14 在線留言
詳細摘要： 半導體工藝技術一直在不斷縮小規(guī)模并朝著3D結構發(fā)展，這對薄膜沉積提出了挑戰(zhàn)
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-14 在線留言
詳細摘要： CanonAnelva二手物理氣相沉積PVD設備FC7100于2011年開始投入使用，適用于12英寸晶圓
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-12 在線留言
詳細摘要： SAMCO二手刻蝕機PD-3800現(xiàn)貨供應，2011年設備，PECVD系統(tǒng)，可對2-6英寸晶圓進行加工處理，已打包封裝完成，隨時發(fā)貨
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-05 在線留言
詳細摘要： AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，能夠在原子水平上控制薄膜厚度
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言
詳細摘要： AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應沉積薄膜，實現(xiàn)了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言
詳細摘要： PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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